EUV光刻共1篇

ASML与蔡司公布Hyper NA蓝图,0.75孔径再降半间距

ASML与蔡司公布Hyper NA蓝图,0.75孔径再降半间距-会懂网
会懂网AI资讯,10月14日,近日,ASML与卡尔蔡司SMT的工程师在二零二六年十月的纳米图案化材料与计量学期刊上发表论文,提出下一代极紫外光刻系统Hyper NA的光学架构,建议把数值孔径从当前High ...
huidong的头像-会懂网huidong20小时前
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